디스플레이

Susceptor

설명

LCD 제조공정 중 Process Chamber(CVD 공정) 내부에 사용하는 Part로 Hot Plate 기능

 

장점

기존 Susceptor는 열 균일도가 좋지 않은 문제로 균일한 박막두께 확보가 되지 않는 문제점이 있어
현재 국내 공급되고 있는 Susceptor는 온도 균일도가 높지 못하고 화학증착공정에 사용하는 글라스의 전체 면적을 모두 생산에
활용하지 못하기때문에 글라스 표면 면적을 모두 사용 할 수 있도록  Susceptor의 디자인개발과 모든 부위의 온도 균일도를
균등하게 제공하도록 히팅패턴을 향상시키는 기술을 개발함.

Diffuser

설명

Chamber의 핵심부품으로서 CVD공정에서 GAS를 균일하게 확산 시키는 제품

 

장점

높은 공정온도(400도)내에서도 견딜 수 있는 Anodizing 기술 및 열처리 기술과, 미세가공 기술 적용 으로 제작 되어
Particle 제거 및 Gas Uniformity 수준도 최고의 수준으로 제작
각 세대별 글로벌 기업들이 상구정공의 Diffuser를 도입 하고 있습니다.

Backing Plate

설명

Diffuser를 통해 분사되는 Gas가 균일하게 분포 될 수 있게 하는 역할

 

장점

설계에서 가공 후처리까지 상구정공 만의 높은 표면 조도 확보 및 노하우로 고객의 기대에 부흥하고 있습니다.

Chamber

설명

LCD/Oled 및 반도체 공정의 메인 제품으로 고진공과 높은 온도에서 여러 부품이 장착되어 사용 되는 제품

 

장점

여러 종류의 Process Chamber를 생산 납품해 왔으며, 소형에서 대형 까지 고객사의 요구 사항에 최적의 품질로 제공 하고 있습니다.